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1. 諛섎룄泥� Device �젣�옉 怨쇱젙(Si Base)
- p-type Si 湲고뙋�뿉 �궛�솕留됱쓣 �꽦�옣�떆�궓�떎(Furnace).
��삵솕�빀臾쇱�� CVD怨듭젙�쓣 嫄곗퀜 �궛�솕留됱쓣 �삎�꽦�븳�떎.
- Spin Coater瑜� �넻�빐 PR�쓣 �룄�룷�븳�떎 .
.....
2. Oxidation
- Si Substrate�뿉 dopant瑜� implant or diffusion �떆�궗�븣 蹂댄샇留�
�뿭�븷 �닔�뻾
- Device媛꾩쓽 Electricaly Isolation 湲곕뒫(Field Oxide)
.....
3. Photo
- 諛섎룄泥� Device �젣�옉 怨듭젙��� �뿬�윭 �옱吏�(Oxide, Metal, Impurity,
etc)�쓣 �썝�븯�뒗 �뙣�꽩�쑝濡� �뿬�윭 痢듭쓣 �삎�꽦�빐 媛��뒗 怨쇱젙�쓣 留먰븳�떎.
.....
4. Etch ......
5. Metallization......
6. CVD ......
7. Ion Implantation......
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_ppt_09.gif "諛섎룄泥� 怨듭젙�쓽 �씠�빐(Si base) (9 페이지)")
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